MFA在半导体生产过程和设备上的应用

半导体领域的应用 MFA控制器类型 MFA益处
??反应炉?- 多区域温度控制(低温)。
??淀积?- 真空、气流和压力的控制。
??刻蚀?- 化学成分、pH值和流量的控制。
??CMP?- 浆液流量和压力的控制。
??RTP?- 高速温度控制。
??ALD?- 流体和气体的传送。
??运动控制?- 高速、高精度自适应运动控制。
??SISO MFA?取代PID,免去人工整定参数。
??Nonlinear MFA?控制非线性过程。
??MIMO MFA?控制多变量系统。
??Anti-delay MFA?控制大滞后过程。
??Feedforward MFA?抑制可测的扰动。
??MFA pH?控制pH过程。
??高产量?- 快速精确地控制到设定值。
??产品上市周期短?- 新产品的研发无需建立过程模型。
??运行成本低?- 由于免去了控制器参数的人工整定,大大延长了运行周期。
??生产设备使用效率高?- 极少的校正和调整。.
??最佳“所有权成本”- 当MFA嵌入到您的设备中。

无模型自适应(MFA)控制的核心

MFA的特点
MFA内幕
关键词
说明
控制复杂过程
自适应
自适应加权因子在每个采样周期都在刷新,目标是使偏差e(t)最小。
无需精确的过程知识
鲁棒性
提供了比PID和其他控制器更宽的鲁棒范围。
无需过程辨识
快速度
无需在模型训练上消耗时间,过程控制即刻实现。
无需控制器设计
稳定性
可保证无源过程的闭环稳定。
无需复杂的人工整定
使用方便
设定,投运和维护非常简单。

 

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