半导体

设备/过程 被控变量 控制难点 MFA使用类型
快速热处理设备(RTP)

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区域温度 高速,非线性,多变量 高速版非线性MFA+前馈MFA
化学机械抛光(CMP)

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浆液 非线性 非线性MFA
压力回路 非线性,多变量 非线性MFA+前馈MFA
淀积系统

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气流 非线性,多变量 非线性MFA+前馈MFA
真空压力 非线性,多变量 非线性MFA
仪器设备样机 温度、压力,流量和运动控制 样机设计的频繁修改致使系统动态特性改变 多种MFA
废水处理应用实例 pH值 对象增益成指数形式变化,并伴随有时滞 MFA pH抗滞后MFA pH
化学中和反应 pH值 高精度pH控制 MFA pH抗滞后MFA pH