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半导体
 
     
 
设备/过程 被控变量 控制难点 MFA使用类型
快速热处理设备（RTP）

索取资料		 区域温度 高速，非线性，多变量 （高速版）非线性MFA + 前馈MFA
化学机械抛光（CMP）

索取资料		 浆液 非线性 非线性MFA
压力回路 非线性，多变量 非线性MFA + 前馈MFA
淀积系统

索取资料		 气流 非线性，多变量 非线性MFA + 前馈MFA
真空压力 非线性，多变量 非线性MFA
仪器设备样机 温度、压力，流量和运动控制 样机设计的频繁修改致使系统动态特性改变 多种MFA
废水处理

应用实例
 pH值 对象增益成指数形式变化，并伴随有时滞 MFA pH 或 抗滞后MFA pH
化学中和反应 pH值 高精度pH控制 MFA pH 或 抗滞后MFA pH
 
   
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